一種電磁屏蔽罩制造技術

技術編號:23206088 閱讀:62 留言:0更新日期:2020-01-24 20:39
本申請涉及電磁干擾的屏蔽,尤其涉及一種電磁屏蔽罩。本申請電磁屏蔽罩,其接收光一面上開設有窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,所述的鍍膜包括濾光膜層、導電屏蔽膜層,濾光膜層、導電屏蔽膜層鍍在同一透明基片上或單獨設置在兩片透明基片上,再合為一體。本申請通過在屏蔽罩接收光一面上開設窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,反射光經過透明基片進入光電器件,使光電器件接收到足夠強度的反射光,同時鍍膜的透明基片也具有屏蔽效果,能夠滿足屏蔽要求。相比于傳統屏蔽方式,該方式以鍍膜的透明基片代替光路中的金屬網狀結構,形成完整封閉腔體,能擁有更好的屏蔽效果,且減小信號光的衰減率。

A kind of electromagnetic shield

【技術實現步驟摘要】
一種電磁屏蔽罩
本技術申請涉及電磁干擾(EMI)的屏蔽,尤其涉及一種電磁屏蔽罩。
技術介紹
光電器件是光學雷達的重要組件,用于接收光信號并將光信號轉換為可處理的電信號。這些接收器件通常具有靈敏的響應閾值和響應速度,因而極易受環境因素干擾,其中環境光和電磁干擾是影響接收器件性能的重要因素。為解決上述問題,本領域技術人員通常同時使用濾光片和屏蔽罩,如圖1所示,用濾光片10降低環境光帶來的干擾,用電磁屏蔽罩降低電磁干擾,屏蔽罩9一般具有金屬網格8,用于通過光,確保雷達在復雜環境下的測量性能的同時保證光的通過。但同時采用濾光片、屏蔽罩會帶來復雜的裝配工藝和較大的信號光衰減。為了減小信號光衰減率,就必須在屏蔽效果和光衰中進行合理的讓步,調整屏蔽罩網格結構的目數,很可能出現電磁屏蔽效果一般且光衰仍較嚴重的現象。同時,屏蔽罩的加工工藝也會帶來光衰和屏蔽性能的一致性問題,帶來樣機差異,提高不良率概率。
技術實現思路
本申請實施例在于提出一種電磁屏蔽罩,解決現有屏蔽罩不能同時滿足光學元件的透光率和屏蔽效果的問題。為達此目的,本技術申請實施例采用以下技術方案:一方面,一種電磁屏蔽罩,其接收光一面上開設有窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,所述的鍍膜包括濾光膜層、導電屏蔽膜層,濾光膜層、導電屏蔽膜層鍍在同一透明基片上或單獨設置在兩片透明基片上,再合為一體。在一種可能的實現方式中,所述的透明基片為玻璃基片或透明樹脂基片,其單面或雙面鍍濾光膜層。在一種可能的實現方式中,所述的透明基片在單面鍍有濾光膜層時,所述的導電屏蔽膜層復合在透明基片未鍍濾光膜層一側或單獨設置在另一透明基片上。在一種可能的實現方式中,所述的透明基片在雙面鍍有濾光膜層時,所述的導電屏蔽膜層復合在透明基片任一側或單獨設置在另一透明基片上。在一種可能的實現方式中,所述的濾光膜層、導電屏蔽膜單獨設置在兩片透明基片上時,兩片透明基片通過膠粘層粘接。在一種可能的實現方式中,所述的導電屏蔽膜層為導電氧化材料薄膜層,所述的導電氧化材料為氧化鋅、摻氟二氧化錫或氧化銦錫。在一種可能的實現方式中,所述導電屏蔽膜層的可見光透過率為80-95%,紅外光透過率60-80%,導電方阻3-10Ω。在一種可能的實現方式中,所述導電屏蔽膜層的可見光透過率為90-95%,紅外光透過率70-80%,導電方阻3-5Ω。在一種可能的實現方式中,所述的濾光膜層帶寬范圍為雷達信號光波長范圍,所述的透明基片厚度為0.3-10mm。在一種可能的實現方式中,所述的鍍膜的透明基片與屏蔽罩窗口之間通過螺接或卡接或粘接在一起。本申請實施例通過在屏蔽罩接收光一面上開設窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,反射光經過透明基片進入光電器件,使光電器件接收到足夠強度的反射光,同時鍍膜的透明基片也具有屏蔽效果,能夠滿足屏蔽要求。相比于傳統屏蔽方式,該方式以鍍膜的透明基片代替光路中的金屬網狀結構,形成完整封閉腔體,能擁有更好的屏蔽效果,且減小信號光的衰減率。附圖說明圖1是
技術介紹
示意圖。圖2是本申請加裝鍍膜的透明基片后的屏蔽罩示意圖。圖3是單面鍍濾光膜的透明基片的一種結構示意圖。圖4是雙面鍍濾光膜的透明基片的一種結構示意圖。圖5是雙面鍍濾光膜的透明基片的另一種結構示意圖。圖中:1、透明基片;2、濾光膜層;3、導電屏蔽膜層;4、窗口;5、光電器件;6、導電粘合層;7、膠合層;8、金屬網格;9、屏蔽罩;10、濾光片。具體實施方式下面結合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本申請的技術方案。需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本申請。為了使本
的人員更好地理解本申請方案,下面將結合本申請實施例中的附圖,對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本申請一部分的實施例,而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應當屬于本申請保護的范圍。需要說明的是,本申請的說明書和權利要求書及上述附圖中的術語“第一”、“第二”等是用于區別類似的對象,而不必用于描述特定的順序或先后次序。應該理解這樣使用的數據在適當情況下可以互換,以便這里描述的本申請的實施例。此外,術語“包括”和“具有”以及他們的任何變形,意圖在于覆蓋不排他的包含,例如,包含了一系列步驟或單元的過程、方法、裝置、產品或設備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元,而是可包括沒有清楚地列出的或對于這些過程、方法、產品或設備固有的其它步驟或單元。如圖2所示,一種電磁屏蔽罩,其接收光一面上開設有窗口4,窗口4上蓋有鍍膜的透明基片1,所述的鍍膜包括濾光膜層2、導電屏蔽膜層3,濾光膜層2、導電屏蔽膜層3鍍在同一透明基片1上或單獨設置在兩片透明基片1上,再合為一體。其中,倒掉屏蔽膜層的厚度為幾十到幾百納米。屏蔽罩9的其它面板為金屬薄板或復合有屏蔽層的非金屬薄板。通過在屏蔽罩9接收光一面上開設窗口4,窗口4上蓋有鍍膜的透明基片1,激光反射光可以通過鍍膜的透明基片1,使光電器件5接收到足夠強度的反射光,同時鍍膜的透明基片1也具有屏蔽效果,能夠滿足屏蔽要求。相比于傳統屏蔽方式,本申請以鍍膜的透明基片1代替光路中的金屬網狀結構,形成完整封閉腔體。采用傳統的金屬網格屏蔽效果為100%,光衰為40-50%;減少網格格數,光衰為20-25%,但是屏蔽效果下降到50-75%;采用本申請方案,屏蔽效果為100%,光衰為40-50%,在保證屏蔽效果的同時,減小信號光的衰減率。所述的透明基片1為玻璃基片或透明樹脂基片,其單面或雙面鍍濾光膜層2。如圖2中所示,所述的透明基片1在單面鍍有濾光膜層2時,所述的導電屏蔽膜層3復合在透明基片1未鍍濾光膜層一側。如圖3所示,所述的透明基片1在單面鍍有濾光膜層2時,所述的導電屏蔽膜層3也可單獨設置在另一透明基片1上,兩個透明基片1之間通過膠粘層7結合為一體。在鍍有濾光膜層2的透明基片1另一面上鍍導電屏蔽膜層3,因為導電屏蔽層3是高溫下鍍膜,對透明基片1的材質有要求,透明基片1需選用玻璃基片。導電屏蔽膜層3單獨設置在另一透明基片1上時,兩個透明基片1材質可以分別選擇玻璃基片、透明樹脂基片。如圖4所示,所述的透明基片1在雙面鍍有濾光膜層2時,所述的導電屏蔽膜層3復合在透明基片1任一側。如圖5所示,所述的透明基片1在雙面鍍有濾光膜層2時,導電屏蔽膜層3也可單獨設置在另一透明基片1上,兩個透明基片1之間通過膠粘層7結合為一體。同樣因為導電屏蔽層3是高溫下鍍膜,當導電屏蔽層3與濾光膜層2鍍在同一透明基片1上時,透明基片1需選用玻璃基片。導電屏蔽膜層3單獨設置在另一透明基片1上時,兩個透明基片1材質可以分別選擇玻璃基片、透明樹脂基片。考本文檔來自技高網
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【技術保護點】
1.一種電磁屏蔽罩,其特征在于,其接收光一面上開設有窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,所述的鍍膜包括濾光膜層、導電屏蔽膜層,濾光膜層、導電屏蔽膜層鍍在同一透明基片上或單獨設置在兩片透明基片上,再合為一體。/n

【技術特征摘要】
1.一種電磁屏蔽罩,其特征在于,其接收光一面上開設有窗口,窗口上蓋有鍍膜的透明基片,所述的鍍膜包括濾光膜層、導電屏蔽膜層,濾光膜層、導電屏蔽膜層鍍在同一透明基片上或單獨設置在兩片透明基片上,再合為一體。


2.根據權利要求1所述的一種電磁屏蔽罩,其特征在于,所述的透明基片為玻璃基片或透明樹脂基片,其單面或雙面鍍濾光膜層。


3.根據權利要求2所述的電磁屏蔽罩,其特征在于,所述的透明基片在單面鍍有濾光膜層時,所述的導電屏蔽膜層復合在透明基片未鍍濾光膜層一側或單獨設置在另一透明基片上。


4.根據權利要求2所述的電磁屏蔽罩,其特征在于,所述的透明基片在雙面鍍有濾光膜層時,所述的導電屏蔽膜層復合在透明基片任一側或單獨設置在另一透明基片上。


5.根據權利要求2或3所述的電磁屏蔽罩,其特征在于,所述的濾光膜層、導電屏蔽膜單獨設置在兩片透明基片上時,...

【專利技術屬性】
技術研發人員:疏達李遠楊野
申請(專利權)人:北醒北京光子科技有限公司
類型:新型
國別省市:北京;11

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